手持式光譜儀主要由X光管、探測(cè)器、CPU以及存儲(chǔ)器組成，由于其便攜具有、便攜、準(zhǔn)確等特點(diǎn)，使其在合金、礦石、環(huán)境、消費(fèi)品等領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用。 要求具有高的分辨率和信噪比、更好的強(qiáng)度準(zhǔn)確性和波長(zhǎng)準(zhǔn)確性以及強(qiáng)的抗外界干擾性和優(yōu)良的儀器穩(wěn)定性，在儀器的軟件上，要求能夠進(jìn)行導(dǎo)數(shù)、去卷積等復(fù)雜的數(shù)學(xué)計(jì)算，能夠計(jì)算光譜間相似度、模式識(shí)別分析、支持多元校正分析和用戶(hù)自建譜庫(kù)并進(jìn)行檢索
手持式光譜儀用于的定量定性分析：
手持式光譜儀是一種功能強(qiáng)大,并且可擴(kuò)展的手持式光譜儀,廣泛用于金屬材料的成分分析,牌號(hào)鑒別和分選.它包括激發(fā)和配有可充電電池的光譜儀主機(jī)兩部分.它工作時(shí),既不需要?dú)鍤?也不需要放射源。 1、原理：手持式光譜儀屬于熒光光譜,實(shí)驗(yàn)室用的直讀屬于火花直讀光譜,是激發(fā)源不同 2、精度：手持式光譜儀主要用于定性分析,實(shí)驗(yàn)室用的火花直讀光譜主要用于定量分析 3、分析范圍：手持式光譜儀可分析金屬及礦石,并且可分析一些火花直讀無(wú)法激發(fā)的基體,例如鋯基體；實(shí)驗(yàn)室直讀光譜儀雖然分析的基體比手持式的少,但是相同基體里分析的元素種類(lèi)比手持式的要多。

技術(shù)參數(shù)： 重量： 1.6kg 尺寸： 30cm（L） x 10cm（W） x 28cm（H） 激發(fā)源： X射線管，Ag靶，40kV 檢測(cè)器： SI-PIN檢測(cè)器 操作系統(tǒng)：HP掌上電腦：Windows 5.0 Bruker 軟件 冷卻系統(tǒng)：Peltier 半導(dǎo)體冷卻系統(tǒng) 電源： 交、直流供電;充電鋰電池 工作條件：溫度：-20 ℃ ～ 55 ℃ 　濕度：0～95%

手持式分析儀 探測(cè)器：13mm2 電致冷Si-PIN探測(cè)器 激發(fā)源：40KV/50uA-銀端窗一體化微型X光管 檢測(cè)時(shí)間：10-200秒（可手持式或座立式測(cè)試） 檢測(cè)對(duì)象：固體、液體、粉末 檢測(cè)范圍：硫(S)到鈾(U)之間所有元素 可同時(shí)分析元素：多至26個(gè)元素 元素檢出限：0.001%～0.01% 校正方式： 銀(Ag) 性：自帶模式，非授權(quán)人員無(wú)法使用 Data使用性：可在PDA內(nèi)進(jìn)行編輯，可導(dǎo)入PC機(jī)進(jìn)行 保存打印，配備海量存儲(chǔ)卡 電 源： 兩塊鋰電池滿(mǎn)電可連續(xù)工作8小時(shí)

儀器既可手持1-2秒對(duì)樣品進(jìn)行測(cè)試，也能使用座式對(duì)樣品進(jìn)行較長(zhǎng)時(shí)間的精細(xì)測(cè)試，10秒即可進(jìn)行接近實(shí)驗(yàn)室精度的測(cè)量。 數(shù)據(jù)傳輸更加高速 采用嵌入式Windows CE系統(tǒng)，高顯示分辨率（640*480）液晶顯示觸摸屏，結(jié)合數(shù)字多道技術(shù)，采用SPI數(shù)據(jù)傳輸，有效提升數(shù)據(jù)傳輸能力與數(shù)據(jù)運(yùn)算能力。在任何環(huán)境中，測(cè)試數(shù)據(jù)都盡在掌中。 防護(hù)、關(guān)愛(ài)健康 三重防護(hù)功能，自動(dòng)感應(yīng)，具有無(wú)樣品空測(cè)，2秒自動(dòng)關(guān)X光管功能；工作時(shí)的水平遠(yuǎn)低于國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，無(wú)射線泄漏；加厚防護(hù)測(cè)試壁；配送測(cè)試防護(hù)罩。 電量強(qiáng)勁、充電方便。
手持式光譜儀系統(tǒng)誤差的來(lái)源有： (1)標(biāo)樣和試樣中的含量和化學(xué)組成不完全相同時(shí)，可能引起基體線和分析線的強(qiáng)度改變，從而引入誤差。 (2)標(biāo)樣和試樣的物理性能不完全相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線會(huì)有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。 (3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過(guò)退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時(shí)，測(cè)出的數(shù)據(jù)會(huì)有所差別。 (4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過(guò)程中加入脫氧劑、除硫磷劑時(shí)，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。 (5)要系統(tǒng)誤差，必須嚴(yán)格按照標(biāo)準(zhǔn)樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，需要采用化學(xué)分析方法分析多次校對(duì)結(jié)果。
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